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專(zhuān)注光譜分析
光譜分析設(shè)備產(chǎn)品生產(chǎn)家18962188051
當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > > 礦產(chǎn)分析儀 > EDX-9000B PLUSEDX9000B PLUS X熒光光譜礦產(chǎn)礦石分析儀
簡(jiǎn)要描述：ESI英飛思EDX9000B plus光譜儀主要應(yīng)用于采礦作業(yè)（勘探、開(kāi)采、品位控制），工業(yè)礦物，生產(chǎn)水泥和建筑材料的原材料，耐火材料，陶瓷和玻璃，地球化學(xué)學(xué)術(shù)研究，考古等。EDX9000B plus優(yōu)異的線性動(dòng)態(tài)范圍，可實(shí)現(xiàn)在水泥、礦物、采礦、金屬、玻璃和陶瓷行業(yè)進(jìn)行超高精度的過(guò)程控制和質(zhì)量控制。具有全新真空光路系統(tǒng)和超高分辨率技術(shù)的新一代Fast SDD檢測(cè)器，對(duì)輕、中、重元素和常見(jiàn)氧化物
產(chǎn)品廠地：蘇州市廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2024-10-29訪 問(wèn) 量：27219產(chǎn)品分類(lèi)
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 英飛思 | 行業(yè)專(zhuān)用類(lèi)型 | 地質(zhì)巖礦 |
|---|---|---|---|
| 重復(fù)性 | 0.01% | 能量分辨率 | 125eV |
| 分析含量范圍 | 1ppm-99.99% | 元素分析范圍 | Na-U |
| 價(jià)格區(qū)間 | 30萬(wàn)-50萬(wàn) | 儀器種類(lèi) | 臺(tái)式/落地式 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,地礦,能源,建材/家具,道路/軌道/船舶 | 探測(cè)器 | FSDD |
EDX-9000B PLUS XRF Spectrometer
能量色散X熒光光譜儀
礦產(chǎn)礦石專(zhuān)用分析儀
Simply the Best
>*制成Peltier電制冷 FAST SDD硅漂移檢測(cè)器
>真空光路配備薄膜濾光片技術(shù)，提高輕元素檢出限
>可同時(shí)分析40種元素
>可分析固體，液體，粉末和泥漿
>進(jìn)口X光管管芯提供可靠樣品激發(fā)性能
>無(wú)損檢測(cè)，快速分析（1-2分鐘出結(jié)果）
>無(wú)需化學(xué)試劑，無(wú)耗材，更環(huán)保，更高效
產(chǎn)品特點(diǎn)
1.小型化、高性能、高速度、易操作，Na11-U92高靈敏度、高精度分析
2.可同時(shí)分析40種元素
3.采用多準(zhǔn)直器多濾光片和扣背景技術(shù)
4. Peltier電制冷 FAST SDD硅漂移檢測(cè)器提供出色的短期重復(fù)性和長(zhǎng)期再現(xiàn)性以及出色的元素峰分辨率
5.超高記數(shù)數(shù)字多道電路設(shè)計(jì)，雙真空抽速機(jī)構(gòu)，真空度自動(dòng)穩(wěn)定系統(tǒng)
6.標(biāo)配基本參數(shù)法軟件，多任務(wù)，多窗口操作
7.薄膜濾光片技術(shù)，有效提高輕元素檢出限
>儀器參數(shù)
儀器外觀尺寸: 565mm*385mm*415mm |
超大樣品腔：465mm*330mm*110mm |
半封閉樣品腔（抽真空時(shí)）：Φ150mm×高75mm |
儀器重量: 48Kg |
元素分析范圍：Na11-U92鈉到鈾 |
可分析含量范圍：1ppm- 99.99% |
探測(cè)器：AmpTek 超高分辨率電制冷Fast SDD硅漂移檢測(cè)器 |
探測(cè)器分辨率：122 eV FWHM at 5.9 keV |
處理器類(lèi)型：全數(shù)字化DP-5分析器 |
譜總通道數(shù)：4096道 |
X光管：高功率50瓦光管（進(jìn)口管芯），冷卻方式：硅脂冷卻 |
光管窗口材料：鈹窗 |
準(zhǔn)直器：多達(dá)8種選擇，最小0.2mm |
濾光片：7種濾光片的自由選擇和切換 |
高壓發(fā)生裝置：原裝美國(guó)高壓，電壓輸出：0-50kV；輸出電流：0-1mA |
高壓參數(shù)：最小5kv可控調(diào)節(jié)，自帶電壓過(guò)載保護(hù)，輸出精度：0.01% |
樣品觀察系統(tǒng)：500萬(wàn)像素高清CCD攝像頭 |
電壓：220ACV 50/60HZ |
環(huán)境溫度：-10 °C 到35 °C |
儀器配置
>標(biāo)準(zhǔn)配置 | >可選配置 |
純Ag初始化標(biāo)樣 | 磨樣機(jī) |
真空泵 | 壓片機(jī) |
礦石專(zhuān)用樣品杯 | 烘干箱 |
USB數(shù)據(jù)線 | ESI-900型XRF專(zhuān)用全自動(dòng)熔樣機(jī) |
電源線 | 電子秤 |
測(cè)試薄膜 | 礦石標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) |
儀器出廠和標(biāo)定報(bào)告 | 交流凈化穩(wěn)壓電源 |
保修卡 | 150目篩子 |
全新設(shè)計(jì)的XTEST分析軟件
軟件內(nèi)核包括基本參數(shù)法（FP），經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法（EC）,可輕松分析各類(lèi)樣品。
*光譜處理參數(shù)包括用于定義背景連續(xù)性，堆積峰和峰總和，平滑度以及測(cè)量到的峰背景光譜的數(shù)量
*對(duì)吸收以及厚膜和薄膜二次熒光的*校正，即所有基質(zhì)效應(yīng)，增強(qiáng)和吸收。
*譜顯示：峰定性，KLM標(biāo)記，譜重疊比較，可同時(shí)顯示多個(gè)光譜圖
*可以通過(guò)積分峰的凈面積或使用測(cè)得的參考光峰響應(yīng)，將光峰強(qiáng)度建模為高斯函數(shù)。
*可以使用純基本參數(shù)方法，具有分散比的基本參數(shù)（對(duì)于包含大量低Z材料的樣品）或通過(guò)簡(jiǎn)單的最小二乘擬合進(jìn)行定量分析。
*基本參數(shù)分析可以基于單個(gè)多元素標(biāo)準(zhǔn)，多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)或沒(méi)有標(biāo)準(zhǔn)的樣品。
鋁土礦樣品10次連續(xù)測(cè)試穩(wěn)定性報(bào)告
樣品 | 氧化鎂 | 三氧化二鋁 | 二氧化硅 | 氧化鉀 | 氧化鈣 | 二氧化鈦 | 氧化錳 | 三氧化二鐵 |
Sample-1 | 0.438 | 84.577 | 8.754 | 0.196 | 0.502 | 3.753 | 0.049 | 1.966 |
Sample-2 | 0.442 | 84.853 | 8.88 | 0.197 | 0.522 | 3.799 | 0.052 | 1.962 |
Sample-3 | 0.424 | 84.508 | 8.81 | 0.197 | 0.509 | 3.852 | 0.051 | 1.983 |
Sample-4 | 0.427 | 84.537 | 8.636 | 0.196 | 0.513 | 3.777 | 0.051 | 1.963 |
Sample-5 | 0.424 | 84.501 | 8.709 | 0.197 | 0.503 | 3.791 | 0.05 | 1.973 |
Sample-6 | 0.415 | 84.496 | 8.737 | 0.2 | 0.513 | 3.861 | 0.051 | 2.013 |
Sample-7 | 0.45 | 84.818 | 8.917 | 0.197 | 0.511 | 3.854 | 0.051 | 1.966 |
Sample-8 | 0.423 | 84.577 | 8.689 | 0.201 | 0.501 | 3.838 | 0.05 | 1.971 |
Sample-9 | 0.447 | 84.381 | 8.74 | 0.199 | 0.495 | 3.853 | 0.05 | 1.971 |
Sample-10 | 0.453 | 84.753 | 8.893 | 0.201 | 0.517 | 3.793 | 0.052 | 1.981 |
Average 平均值 | 0.434 | 84.6 | 8.776 | 0.198 | 0.509 | 3.817 | 0.051 | 1.975 |
Standard Deviation | 0.013 | 0.155 | 0.094 | 0.002 | 0.008 | 0.039 | 0.001 | 0.015 |
RSD | 3.10% | 0.18% | 1.08% | 0.97% | 1.63% | 1.02% | 1.91% | 0.76% |
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聯(lián)系人：張經(jīng)理
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